复合薄膜 laminated film
由两层或多层不同材料的薄膜复合而成的高分子材料，主要用于包装。通过复合，可以获得具有各单一材料综合性质的材料，使用的基材主要有塑料薄膜（如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯和聚酯等）、玻璃纸、纸张和金属箔等。基材的复合可以采用挤出复合方法或借助于胶粘剂进行胶粘复合。
以聚乙烯为例。其挤出复合方法是将聚乙烯投入料斗，经过挤出机从细缝挤出一定厚度熔融膜，与送入的基材在压力滚筒和冷却滚筒之间复合、卷取，即得制品。从冷却滚筒引入第二基材，可制得聚乙烯夹心的三层复合膜；如在该复合膜两侧再复以聚乙烯，即可得五层复合膜。这种聚乙烯复合薄膜的用途相当广泛。
多层塑料复合薄膜也可采用共挤出方法制得。采用几台挤出机分别将几种不同的树脂引入一公共机头中，然后从口模中挤出，即得制品。
借助胶粘剂制取多层复合薄膜的装置是将胶粘剂用涂布机涂敷在薄膜或其他基材上，在干燥区干燥，然后与其他基材热压复合。基材涂敷胶粘剂后亦可先与其他基材复合，然后干燥。
[thin film；film]
一种薄而软的透明薄片。用塑料、胶粘剂、橡胶或其他材料制成。聚酯薄膜科学上的解释为：由原子，分子或离子沉积再基片表面形成的2维材料
例：光学薄膜、复合薄膜、超导薄膜、聚酯薄膜、尼龙薄膜、塑料薄膜等等。
广泛用于电子电器,机械,印刷等行业,
[编辑本段]薄膜的应用和参数
二氧化铈
名称：二氧化铈（CeO2）
使用高密度的钨舟皿(较早使用)蒸发，在200℃的基板上蒸着二氧化铈，得到一个约为2.2的折射率，在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化，在300℃基板500nm区域折射率为2.45，在波长短过400nm时有吸收，传统方法蒸发缺乏紧密性，用氧离子助镀可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜，一般为颗粒状,还可用一增透膜和滤光片等。
透光范围(nm) 折射率(N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
400--16000 2.35 约2000 电子枪 防反膜， 多
名称：氧化镁(MgO)
必须使用电子枪蒸发因该材料升华，坚硬耐久且有良好的紫外线(UV)穿透性，250nm时n=1.86，190nm时n=2.06， 166nm时K值为0.1， n=2.65。可用作紫外线薄膜材料。MGO/MGF2膜堆从200nm---400nm区域透过性良好，但膜层被限制在60层以内(由于膜应力)500nm时环境基板上得到n=1.70。由于大气CO2的干扰，MGO暴露表面形成一模糊的浅蓝的散射表层，可成功使用传统的MHL折射率3层AR膜(MgO/CeO2/MgF2)。
名称:氟化钍（ThF4）
260-12000nm以上的光谱区域，是一种的低折射率材料，然而存在放射性，在可视光谱区N从 1.52降到1.38(1000nm区域)在短波长趋近于1.6,蒸发温度比MGF2低一些,通常使用带有凹罩的舟皿以免THF4良性颗粒火星飞溅出去,而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加坚固.该膜在IR光谱区300NM小水带几乎没有吸收,这意味着有望得到一个低的光谱移位以及更大的整体坚固性,在8000到12000NM完全没有材料可以替代.
二氧化硅
名称: 二氧化硅(SIO2)
经验告诉我们,,氧离子助镀(IAD)SIO将是SIO2薄膜可再现性问题的一个解决方法,并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.
SIO2薄膜如果压力过大,薄膜将有气孔并且易碎,相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大,,需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性,必要是需要氧气和氩气混合充气,但是这是热镀的情况,冷镀时这种性况不存在.
SIO2用于防反膜,冷光膜,滤光片,绝缘膜,眼镜膜,紫外膜.
透光范围(nm) 折射率(N)
550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
200--2000 1.46 1800-2200 电子枪, 防反膜，增透 少,升华
无色颗粒状,折射率稳定,放气量少,和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜,滤光片等.
二氧化镐
名称:二氧化镐(ZrO2)
ZrO2具有坚硬,结实及不均匀之特性,该薄膜有是需要烘干以便除去它的吸收,其材料的纯度及为重要,纯度不够薄膜通常缺乏整体致密性,它得益于适当使用IAD来增大它的折射率到疏松值以便克服它的不均匀性.目前纯度达到99.99%基本上解决了以上的问题.SAINTY等人成功地使用ZRO2作为铝膜和银膜的保护膜,该膜层(指ZRO2)是在室温基板上使用700EV氩离子助镀而得到的.一般为白色柱状或块状,蒸发分子为ZRO,O2.
真空度小于2*10-5Torr条件下蒸发可得到较稳定的折射率，真空度大于5*10-5Torr时蒸发，薄膜折射率逐渐变小。
蒸镀时加入一定压力的氧气可以改善其材料之不均匀性。
氟化镁
名称:氟化镁（MgF2）
MGF2作为1/4波厚抗反射膜普遍使用来作玻璃光学薄膜，它难以或者相对难以溶解，而且有大约120NM真实 紫外线到大约7000nm的中部红外线区域里透过性能良好。OLSEN，MCBRIDE等人指出从至少200NM到6000NM的区域里，2.75MM厚的单晶体MGF2是透明的,接着波长越长吸收性开始增大,在10000NM透过率降到大约2%,虽然在8000-12000NM区域作为厚膜具有较大的吸收性,但是可以在其顶部合用一薄膜作为保护层.
不使用IAD助镀,其膜的硬度,耐久性及密度随基板的温度的改变而改变的.在室温中蒸镀,MGF2膜层通常被手指擦伤,具有比较高的湿度变化.在真空中大约N=1.32,堆积密度82%,使用300（℃）蒸镀,其堆积密度将达到98%,N=1.39它的膜层能通过消除装置的擦伤测试并且温度变化低,在室温与300（℃）之间,折射率与密度的变化几乎成正比例的. 在玻璃上冷镀MGF2加以IAD助镀可以得到300（℃）同等的薄膜,但是125-150EV能量蒸镀可是最适合的.在塑料上使用IAD蒸镀几乎强制获得合理的附着力与硬度.经验是MGF2不能与离子碰撞过于剧烈.
名称:碲化铅（PbTe）
是一种具有高折射率的IR材料，作为薄膜材料在3800---40000NM是透明的，在红外区N=5.1-5.5，该材料升华,基板板温度250℃是有益的,健康预防是必要的,在高达40000NM时使用效果很好,别的材料常常用在超过普通的14000NM红外线边缘.
铈(Ce)氟化物
名称:金(Au)
金在红外线1000nm波长以上是已知材料中具有反射性的材料,作为一种贵重金属,它具有较强的化学坚硬性,由于它的可塑性因而抗擦伤性能低,AU可用钨或氮化硼舟皿或者电子枪来蒸发(不能与铂舟蒸发,它与铂很快合金).金对玻璃表面的附着力低,因而通常使用一层铬作为胶质层.也可用氧离子助镀使金的附着力得到上百倍的改善,在不透明性达到即中止IAD,并且最后的薄膜中不含有氧,掺氧将降低薄膜的反射率.
铟---锡氧化物
名称:铟---锡氧化物和导电材料
铟-锡氧化物(ITO)和In3O5-SnO2有相对良好的导电性能和可见光穿性.这样的薄膜在数据显示屏和抗热防霜装置等方面已有很大原需求.在建筑上可用作择光窗和可控穿透窗.ITO n=1.85 at500nm熔化温度约1450℃.
名称:金(Au)
金在红外线1000nm波长以上是已知材料中具有反射性的材料,作为一种贵重金属,它具有较强的化学坚硬性,由于它的可塑性因而抗擦伤性能低,AU可用钨或氮化硼舟皿或者电子枪来蒸发(不能与铂舟蒸发,它与铂很快合金).金对玻璃表面的附着力低,因而通常使用一层铬作为胶质层.也可用氧离子助镀使金的附着力得到上百倍的改善,在不透明性达到即中止IAD,并且最后的薄膜中不含有氧,掺氧将降低薄膜的反射率.
铟---锡氧化物
名称:铟---锡氧化物和导电材料
铟-锡氧化物(ITO)和In3O5-SnO2有相对良好的导电性能和可见光穿性.这样的薄膜在数据显示屏和抗热防霜装置等方面已有很大原需求.在建筑上可用作择光窗和可控穿透窗.ITO n=1.85 at500nm熔化温度约1450℃.